TEL:138 1165 4101
欢迎访问:研博智创任丘科技有限公司官网网站
TEL:138 1165 4101
欢迎访问:研博智创任丘科技有公司官网网站!
P

高真空有机金属蒸发镀膜机ZHD350

1.真空腔室:Φ350×H400mm;
2.真空极限:≤5.0×10-5Pa;
3.漏率:≤0.8Pa/h;
4.基片台尺寸:Φ100mm范围内可装卡各种规格基片;



0.00
0.00
  

1.真空腔室:Φ350×H400mm;
2.真空极限:≤5.0×10-5Pa;
3.漏率:≤0.8Pa/h;
4.基片台尺寸:Φ100mm范围内可装卡各种规格基片;





高真空有机/金属蒸发镀膜机

型号:ZHD350


一、整机简述


特点/用途

ZHD350高真空电阻蒸发镀膜机配4组蒸发源,兼容金属材料蒸发与有机材料蒸发;该设备主机与控制一体化设计,PLC触摸屏控制,操控方便,结构紧凑,占地面积小;该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等,深受广大用户好评。

 

其主要用途有:

1. 适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜,单层/多层/复合膜,例:铜、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等;

2. 适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜;例:氧化钼、氟化鋰等;

3. 适用于有机材料蒸发;

4. 适用于扫描电镜制样;

5. 适用于太阳能电池、LED的研究和实验。

二、设备主要技术参数

1.真空腔室

Φ350×H400mm(具体尺寸以实际设计为准),304优质不锈钢真空腔室;前门材质为锻铝,表面处理采用铝氧化工艺。腔室烘烤:室温-150℃,清除吸附在腔体表面的残留物。

2.真空极限

≤5.0×10-5Pa;(设备空载);

3.漏率

设备升压率:≤0.8Pa/h;

设备保压:停泵12小时候后,设备真空度≤8Pa;

4.基片台尺寸

可镀基片尺寸/面积:Φ100mm范围内可装卡各种规格基片;

5.基片台水冷/旋转

基片台温度:10~35℃,旋转速度:0-20转/分钟;

6.蒸发源及电源

3对水冷式蒸发电极;1台3000W金属蒸发电源切换3组蒸发电极;

有机源:有机蒸发源(温度600°),1组;

有机控温蒸发电源:1套(独立PID智能温控蒸发)

7.膜厚不均匀性

≤±5%(基片台Φ80mm范围内);

8.控制方式

PLC+触摸屏控制方式;

9.报警及保护

对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统。

 


Products

研博产品中心