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HF600热丝化学气相沉积金刚石设备

CVD设备

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<p><wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data><strong>真空腔室尺寸：</strong>Ф600×H500m；<br/><strong>极限真空：</strong>≤8.0×10-4Pa；<br/><strong>设备升压率：</strong>≤0.8Pa/H；<br/><strong>耐高温丝架：</strong>高纯钼丝架；</p>
热丝CVD金刚石BDD沉积设备 HF650-1200

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<p><wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data><strong><span style="color: rgb(38, 38, 38);">镀膜方式：</span></strong><span style="color: rgb(38, 38, 38);">化学气相沉积（CVD)；<br/><strong>真空腔室结构：</strong>立式顶盖结构，底部抽气系统，双层水冷；<br/><strong>真空腔室尺寸：</strong>Φ650*H500mm/Φ1000*H10000mm；<br/><strong>基片台尺寸：</strong>300*300mm  500*500mm (可定制）；</span></p>
管式化学气相沉积设备 CVD100/CVD200

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<p><wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data><strong><span style="color: rgb(38, 38, 38);">镀膜方式：</span></strong><span style="color: rgb(38, 38, 38);">化学气相沉积（CVD)；<br/><strong>真空腔室结构：</strong>高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢；<br/><strong>真空腔室尺寸：</strong>Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm；<br/><strong>基片台尺寸： </strong> 2英寸 / 定制生长车（分层）；</span></p>
等离子增强化学气相沉积实验系统PECVD-350

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<p><wxwork-data data-type="ChatMessage" data-version="3.1.20.11441"></wxwork-data><strong><span style="color: rgb(38, 38, 38);">极限真空：</span></strong><span style="color: rgb(38, 38, 38);">≤6.67x10-5 Pa (经烘烤除气后)；<br/><strong>频率： </strong>13.56MHz；<br/><strong>控制方式：手</strong>动逻辑控制；<br/><strong>气路系统：</strong>4路进气及不锈钢管路、截止阀等；</span></p>

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