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管式化学气相沉积设备 100/CVD200

管式化学气相沉积设备 100/CVD200

镀膜方式:化学气相沉积;
真空腔室结构:高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢;
真空腔室尺寸:Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm;
基片台尺寸:  2英寸 / 定制生长车(分层);

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镀膜方式:化学气相沉积;
真空腔室结构:高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢;
真空腔室尺寸:Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm;
基片台尺寸:  2英寸 / 定制生长车(分层);

一、产品特点:

该设备是利用高温化学气相沉积技术,石英管生长室清洁无污染;多路气体控制合理;PID加热温度高控温。高真空环境,兼具真空退火炉功能。

二、主要用途:

   可制备用于光电子、石墨烯、微波器件等高纯薄膜。

三、适用范围:

   适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。

四、技术参数:

镀膜方式

化学气相沉积

真空腔室结构

高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢

真空腔室尺寸

Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm

基片台尺寸

  2英寸 定制生长车(分层)

衬底温度

室温~1050℃,可调可控

电源

多路气体流量控制

控制方式

PLC控制

占地面积

主机L1620×W1060×H1900mm

总功率

10KW 30kw



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