一、产品特点：
设备采用热丝化学气相沉积技术，已应用于国内多家掺硼BDD污水处理电极开发及应用。
二、主要用途：
用于硅、C铌、钛等电极表面沉积BDD电极等,主要用于生活污水处理电极应用及其它应用
三、适用范围：
适合于各单位实验室、高等院校实验室、教学等的项目科研、产品中试之用。
四、技术参数：
镀膜方式 | 化学气相沉积（CVD) |
真空腔室结构 | 立式顶盖结构，底部抽气系统，双层水冷 |
真空腔室尺寸 | Φ650*H500mm/Φ1000*H10000mm |
基片台尺寸 | 300*300mm 500*500mm (可定制） |
衬底温度 | 600-1100℃ |
电源 | DC |
控制方式 | PC+PLC+触摸屏控制 |
占地面积 | 主机L1620×W1060×H1900mm |
总功率 | ≥60KW |
