电子束镀膜设备操作流程介绍

1.电子束镀膜设备工作距离一般可以调节，距离越近，溅射速度越快，但热损伤。

2.通过控制真空压力达到离子流的大小，真空度越低，飞溅速度越快，原子晶粒粗大，电轰击样(阳极)产生的热量越高；真空度越高，飞溅速度越慢，原子晶粒越小，电轰击样产生的热量越小。

3.加速度电压是固定不变的，也有可调节的，加速度电压越高，对样品的热损害就越大。一般采用金属靶材的比例区。

4.对一些热敏样品，需要对样品区进行降温，水冷或者贴片降温；还可以使用磁控装置，将电子偏向电磁镜等样品，这样改造后，成本肯定会增加，石蜡表面可以溅出一层金属，无任何损伤！

5.真空中杂质越多，涂层质量越差。一般来说，黄金比较稳定，等离子气源可以用空气，而其它很多靶材则需要惰性气体。

6.气体原子序数越高，动量越大，溅射速度越快，但晶粒越粗，连续成膜的膜层越厚。

7.高质量的涂层对保持真空室的清洁有很大的好处。

8.不能让机械真空泵长时间保持极限真空，否则容易倒油。

以上就是小编为大家介绍的电子束镀膜设备操作流程，感谢大家耐心的阅读！