离子溅射镀膜机的操作流程

1.一般工作距离可调，距离越近，溅射速度越快，但热损伤会增加。

2.通过控制真空压力实现离子流的大小，真空度越低，I溅射速度越快，原子晶粒越粗，电子轰击样品(阳极)产生的热量越高；真空度越高，I溅射速度越小，原子晶粒越小，电子轰击样品产生的热量越小。

3.加速电压固定可调。加速电压越高，对样品的热损伤越大。一般使用金属靶材的正比区域。

4.一些热敏样品需要冷却样品区域、水冷却或帕尔贴冷却；磁控装置也可以像电磁透镜一样使用电子偏离样品。经过这样的改造，当然会增加很高的成本。石蜡表面可以溅一层金属坏！

5.真空中杂质越多，涂层质量越差。一般来说，黄金相对稳定，空气可以用作等离子体气源，而许多其他靶材需要惰性气体。

6.气体原子序数越高，动量越大，溅射越快，但晶粒越厚，连续膜层越厚。

7.保持真空室的清洁对高质量有很大好处。

8.不要让机械真空泵长时间保持极限真空，否则容易反油。

离子溅射镀膜机的工作原理是在一定的真空条件下，在气体离子或蒸发物离子的轰击下，将蒸发物或反应物沉积在基板表面形成薄膜。离子溅射镀膜机有两种涂层方法，一种是蒸发离子涂层，另一种是溅射离子涂层。