离子溅射镀膜机，顾名思义，是一种磁性控制涂层技术。磁性控制溅射分为直流磁性控制溅射、中频磁性控制溅射和射频磁性控制溅射。不同的涂层材料和不同的技术。影响膜结构附着力和密度的因素是什么？

一、离子溅射镀膜机溅射阈值：

将目标原子溅出所需的入射离子Z小能量值。它与入射离子的类型和目标材料无关。当能量离子量超过溅射阈值时，随着离子能量的增加，在150ev过去，溅射产量与离子能平方成正比；ev~1kev溅射产量与离子能量成正比kev~10kev溅射产量在范围内变化不明显；能量再次增加，但溅射产量呈下降趋势。以下是几种金属用不同的入射离子轰击的溅射阈值。

二、离子溅射镀膜机溅射产量：

当进入离子并击中目标时，每个正离子可以从目标中输出平均原子。影响因素主要包括以下几个方面：

1.随着目标原子序数的变化，溅射产量表现出一定的周期性。随着目标原子D壳电子填充的增加，溅射产量增加（总体变化趋势）。

2.入射离子类型对溅射产量的影响。

溅射产量随着入射原子序数的增加而周期性增加。

相应于45Kev各种入射离子、银、铜、钽溅射产量

3.离子入射角度对溅射产量的影响。

当角度增加到70时，同一靶材和入射离子的溅射产量随着离子入射角的增加而增加⁰~80⁰溅射产量大。进入射角继续增加，溅射产量急剧下降，90⁰溅射产量为零。

4.目标材料温度对溅射产量的影响。

一般来说，在一定的温度范围内，可以认为溅射产量与升华能量密切相关，溅射产量几乎不会随着温度的变化而变化。当温度超过此范围时，溅射产量急剧增加。

以上就是小编今日为大家介绍的离子溅射镀膜机，感谢大家耐心地阅读！