离子溅射镀膜机的涂装工艺通常是指磁控溅涂，属于高速低温溅涂法.这个过程要求空度为1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa惰性气体氩气充入真空(Ar)，在塑料基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间增加高压直流电产生的电子刺激惰性气体，产生等离子体。金属靶材的原子被等离子体轰炸，沉积在塑料基材上.

原理：

使用几十个电子伏特或更高功率的电荷颗粒对材料表面进行轰溅入气相，可用于腐蚀和涂层。入射离子溅射的原子数称为溅射产量(Yield)产量越高，溅射速度越快。Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W一般为0.1-10原子/离子。

直流辉光放电离子10-1-10Pa真空度，在两极之间加高压产生放电，正离子会轰击负电的目标材料，溅到目标材料上，并镀其镀上。

正常的辉光放电()电流密度与阴极物质和形状、气体类型压力等有关。溅水应尽可能稳定。

任何材料都可以飞溅，即使是高熔点材料也容易飞溅，但非导体靶必须是射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；溅射功率和速度较低，因为导电性差。金属溅射功率可达100。W/cm2,非金属＜5W/cm2

离子溅射镀膜机二极溅射技术：

目标材料为阴极，镀层工件和工件架为阳极，气体(氩气)Ar）压力约几Pa或者更高可以得到更高的镀率。

正交电磁场在阴极靶表面形成，电子密度高，离子密度提高，溅射率提高(定量级)，溅射速度可达0.1—1um/min涂层附着力优于蒸镀，是Z实用的涂层技术之一。

其它涂层技术包括偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等。