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​分析多弧离子镀膜机的工作原理
来源: | 作者:佚名 | 发布时间: 2022-02-22 | 296 次浏览 | 分享到:

分析多弧离子镀膜机的工作原理

多弧离子镀膜机通常需要质谱来控制其涂层过程,而旋转质谱是一种能量平衡质谱。它是基于离子在正交高频电场和直流磁场中的旋转共振现象。其基本原理于1949年提出。1951年,托马斯(托马斯)首次开发了质谱仪。1954年,阿尔伯特制作了一种简单的旋转质谱仪,用于分析超高真空下的残留气体,极大地促进了超高真空技术的发展。到1960年,克洛普弗(克洛普弗)开发了一种复杂的旋转质谱仪,可以消除共振离子空间电荷的影响,质谱仪的灵敏度可以在10%范围内保持不变,从而使定量分析成为可能。然而,存在参数调整困难、结构复杂、内部电极不易完全排气等缺点。

由于旋转质谱计的分析器和离子源在较小的空间内,电场会受到非共振离子的干扰。因此,为了克服非共振离子引起的电场畸变,在简单旋转质谱计的基础上开发了复杂的旋转质谱计,其性能比简单旋转质谱计更稳定。

质谱仪的主要参数包括:灵敏度常数、旋转共振频率、质量M+△M的最大半径、分辨率、共振离子的最终能量、轨迹长度、飞行时间和旋转圈数。

优点:零件少,电极薄,体积小,排气少,记忆效果差,特别适合超高真空小体积残留气体分析。

缺点:操作不方便,质量标准不线性,需要磁场,光谱自动记录复杂,不能用电子倍增器检测,可检压力限制最小。


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