分析多弧离子镀膜机的工作原理

多弧离子镀膜机通常需要质谱来控制其涂层过程，而旋转质谱是一种能量平衡质谱。它是基于离子在正交高频电场和直流磁场中的旋转共振现象。其基本原理于1949年提出。1951年，托马斯（托马斯）首次开发了质谱仪。1954年，阿尔伯特制作了一种简单的旋转质谱仪，用于分析超高真空下的残留气体，极大地促进了超高真空技术的发展。到1960年，克洛普弗（克洛普弗）开发了一种复杂的旋转质谱仪，可以消除共振离子空间电荷的影响，质谱仪的灵敏度可以在10%范围内保持不变，从而使定量分析成为可能。然而，存在参数调整困难、结构复杂、内部电极不易完全排气等缺点。

由于旋转质谱计的分析器和离子源在较小的空间内，电场会受到非共振离子的干扰。因此，为了克服非共振离子引起的电场畸变，在简单旋转质谱计的基础上开发了复杂的旋转质谱计，其性能比简单旋转质谱计更稳定。

质谱仪的主要参数包括：灵敏度常数、旋转共振频率、质量M+△M的最大半径、分辨率、共振离子的最终能量、轨迹长度、飞行时间和旋转圈数。

优点：零件少，电极薄，体积小，排气少，记忆效果差，特别适合超高真空小体积残留气体分析。

缺点：操作不方便，质量标准不线性，需要磁场，光谱自动记录复杂，不能用电子倍增器检测，可检压力限制最小。