蒸发镀膜机的工作原理

蒸发镀膜机特点是设备简单，操作方便。薄膜纯度高，质量好，厚度可控。速度快，效率高，可使用薄膜获得清晰的图形，薄膜生长机理相对简单。缺点是不易获得结晶膜，薄膜与基板附着力小，工艺重复性不够好。蒸发涂层技术是较传统的涂层技术，日常应用广泛，市场对蒸发镀膜机的需求也很大。蒸发镀膜机的工作原理是什么？

一些物质通过加热蒸发沉积在固体表面，称为蒸发涂层。该方法较早于1857年由M.法拉第提出，现代已成为常用的涂层技术之一。镀膜机的工作原理是利用真空室内电阻加热法熔化蒸发金属丝，蒸发金属分子沉积在基板上，获得光滑的反射率，达到装饰和美化物体表面的目的。蒸发涂层设备的结构如图1所示。

与其他真空涂层方法相比，镀膜机的蒸发涂层沉积率高，可涂上单质化合物膜，不易热分解。分子束延伸法可用于沉积高纯单晶膜层。喷射炉配有分子束源。当它在超高真空下加热到一定温度时，炉中的元素通过束状分子流向基板。当基板加热到一定温度时，沉积在基板上的分子可以移动。晶体按基板晶格的顺序生长。分子束延伸法可获得所需的高纯化合物单晶膜，慢生长速度可控制在1层/秒。所需成分和结构的单晶膜可通过控制挡板准确制成。分子束延伸法广泛应用于制造各种光集成器件和超晶结构膜。