电弧离子镀膜机的工艺原理是什么？

在真空阴极真空弧光放电理论的基础上，研究了电弧离子镀膜机的技术原理。通过对冷阴极真空弧光放电理论的分析，可以实现放电活动中正离子电流机制与现场电子发射机制的相互影响和限制。因此，放电活动中的阴极材料需要大量蒸发，许多蒸汽分子产生一些正离子，可以在阴极附近产生超强电场，从而促进影响电子触发的现场电子发射机制，导致电子发射到真空环境。

计算电子发射电流密度的方法如下：

电流密度=BEExp(-C/E)

注:计算公式E指阴极电场强度；B指阴极材料与C的相关系数；单位为A/cm。

由于不可能准确地建立和解决阴极电弧光点、能量和质量之间的平衡关系，因此仍难以计算设备放电活动电流密度理论。

因为它涉及阴极电弧光点的离子。阴极电弧光点是一种高电流密度、高速变化现象，位于一个非常小的空间内。该机制尚不完全清楚，但我们可以理解以下解释：

金属离子被吸入阴极表面，产生空间电荷层。这里触发的强电场会使阴极表面的微裂纹或晶界射出电子。

一些高密度电子点会产生高密度电流，产生焦耳热，提高温度，发射热电子。这种现象导致局部集中电流。

局部电流产生的焦耳热会导致阴极材料大量离子和电子发射，释放熔融阴极材料颗粒，留下放电痕迹。

大量离子中的部分离子将被吸回阴极材料表面，再次产生空间电荷层和强电场，新的功率函数点将再次开始电子发射。

以上就是小编今日为大家介绍的电弧离子镀膜机，感谢大家耐心的阅读！