电弧离子镀膜设备的工艺原理是什么？

电弧离子镀膜设备的技术原理是基于冷阴极真空电弧放电理论。通过对冷阴极真空电弧放电理论的分析，可以通过正离子电流机制电流机制与场电子发射机制之间的相互影响和制约来实现电力迁移。因此，这种放电活动中的阴极材料需要大量蒸发，活动产生的许多蒸汽分子会产生一些正离子，可以在阴极附近产生超强电场，从而促进影响电子触发的场电子发射机制，导致电子发射到真空环境。

设备放电活动电流密度的理论计算仍然存在一定的困难，因为目前不可能准确地建立和解决阴极电弧辉点中的功率、能量和质量之间的平衡关系。

因为它涉及到来自阴极电弧光点的离子。阴极电弧光点是位于极小空间，在高电流密度下发生高速变化的现象。这种机制尚不完全清楚，但可以理解以下解释：

金属离子被吸入阴极表面，可以产生空间电荷层。此时触发的强电场会使阴极表面功能函数较小的微裂纹或晶界发射电子。

高分高电子密度点产生高密度电流，高密度电流产生焦耳热，提高点温度，发射热电子。这种现象导致了电流的局部集中。

局部电流集中产生的焦耳热会导致阴极材料产生大量的离子和电子发射，释放熔化的阴极材料颗粒，留下放电痕迹。

大量离子中的一些离子将被吸回阴极材料表面，再次产生空间电荷层和强电场，新功能函数小的点将再次开始电子发射。