化学气相沉积设备产品概述
1.适用范围:化学气相沉积设备适用于各单位实验室、高校实验室、教学等项目的科研、产品中试。
2.产品优点及特点:适用于硬涂层等膜的制备,以及等离子体的清洗。
3.主要用途:化学气相沉积设备主要用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、W、Ti-Si、Gasb等介电、金属膜。
型号 | PE 350 |
真空腔室结构 | 立式上开盖结构 |
真空腔室尺寸 | Φ350×H300mm |
基片台尺寸 | Φ200mm |
衬底温度 | 500±5℃ |
电源 | RF 500W
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控制方式 | PLC控制 |
占地面积 | 主机L1600×W800×H1700mm |
总功率 | ≥6KW |