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蒸发镀膜机

蒸发镀膜机

加热温度:室温~300℃;
真空腔室尺寸:Φ500×H650mm;
膜厚不均匀性:≤±5.0%;
真空腔室结构:立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统;

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加热温度:室温~300℃;
真空腔室尺寸:Φ500×H650mm;
膜厚不均匀性:≤±5.0%;
真空腔室结构:立式圆柱形侧开门结构,后置抽气系统;

蒸发镀膜机工作原理是将钨板制成船形,安装在两个电极之间,在钨舟中心加药,然后慢慢给电极通电,电流通过钨舟和钨电加热。这些低压和高电流使钨舟产生热量,然后传热到涂层材料上。该方法操作简单,结构简单,成本低,适用于当钨槽中的热量高于涂层熔点时,材料升华或蒸发。因此,它被许多设备使用,但由于其密封性能差,以及许多材料不能蒸发,因此它有一些局限性。当钨合金蒸发涂层材料时,材料的熔点必须小于其熔点,否则不能进行。

产品概述:

1.适用:高校、科研院所和企业开展薄膜新材料科研和小批量制备。

2.产品特点/用途:

综合设计,占地面积小,性价比高,性能稳定,使用维护成本低;

适用于制备金属单膜、半导体膜、有机膜、生产线早期工艺试验等。

适用于光学膜、导电膜、半导体膜、铁电膜等的制备。





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