一、功能描述：
特点/用途
该系统为高真空新型阴极弧源 +磁控溅射+离子源及直流脉冲偏压电源辅助联合镀膜系统，该系统广泛用于精密刀具和模具或轴承等外表面内表面上沉积高性能耐磨擦、耐腐蚀陶瓷、金属功能导电薄膜等，如TiAlN、TiN、Cu、Al、ITO等；
设备功能强大，可灵活集成主流先进的硬件配置及工艺技术路线，便于开发及应用先进纳米薄膜技术；是一款理想纳米材料科学应用平台；
该设备一体化设计集成度高，开放式工艺菜单编辑，一键化操作，工艺参数存储及曲线查询，完备的保护，非常适合科研、中试及批量工业生产之需求；
二、技术性能指标 |
1.真空腔室尺寸 | 双层水冷不锈钢腔体：尺寸为φ650×H650mm，前开门结构； 四只可互换矩形法兰接口；一体化设计； |
2.极限真空、抽气速率 | 极限真空：6.0×10-5Pa（加热除气，设备空载抽真空24小时）； 复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门组合的高真空系统； 抽速：从大气到6.6×10-3Pa≤30分钟（空载）； |
3.漏率 | 设备升压率≤0.8Pa/h； 设备保压：停泵12小时候后，真空≤10Pa； |
4.公自转工件架 | 约φ490×H400mm，电机驱动4~6工位公/自转工件架，(可依据工件大小设计) 公转旋转速度：0～5RPM，转速可调可控； 可选择公自转+定位自转功能，双电机驱动； |
5.加热温度 | 加热温度：室温～500±1℃； 【工模具镀膜（配多弧）等选择】； 加热温度：室温～350±1℃； 【仅磁控溅射功能时选择】 铠装加热器，日本导电PID智能温控系统闭环控制加热系统； |
6.镀膜主要配置 | ①φ100mm规格新型阴极弧源及配套160A弧电源；数量：2-6只选配 ②L500×W80mm矩形磁控溅射靶及配套电源；数量：2-3只选配 ③L500mm阳极层离子源及配套电源；选配 ④LZY-N-160新型离子源及电源；（适合金属刀具硬质涂层） （上述弧源、矩形靶、离子源数量根据客户具体需求配置） |
源挡板系统：一套，电机驱动，关闭时可实现靶材清洗，不污染工件，定位准确，高温运转灵活无卡滞； |
单极脉冲偏压电源：辅助沉积12/24kW(可选)，一台； |
7.电气控制 | PC+PLC+液晶屏全自动控制；带工艺储存，记忆、拷贝等功能；有数据生成曲线界面。 具有断水自动报警保护系统； |
8.整机功率 | 约40/60kW (视具体配置)； |
9.占地面积 | 主机L2800mm×W1200mm×H1950mm |
