TEL:138 1165 4101
欢迎访问:研博智创任丘科技有限公司官网网站
TEL:138 1165 4101
欢迎访问:研博智创任丘科技有公司官网网站!
P
高真空多靶镀膜系统 JCPY500

高真空多靶镀膜系统 JCPY500

真空溅射腔室:Ф500×H500mm;
溅射室:8.0×10-5Pa(空载,经烘烤除气后);
工作方式:各靶可独立/顺次/共同工作,采用磁控靶从上向下溅射镀膜;
脉冲偏压:-1000V,1套;

0.00
0.00
  

真空溅射腔室:Ф500×H500mm;
溅射室:8.0×10-5Pa(空载,经烘烤除气后);
工作方式:各靶可独立/顺次/共同工作,采用磁控靶从上向下溅射镀膜;
脉冲偏压:-1000V,1套;

.整机简述:


1.特点/用途

系统主要由进样室、溅射室、永磁磁控溅射靶、脉冲偏压电源、样品台、样品台加热、真空系统、真空测量系统、气路系统、PLC+工控机+液晶屏全自动控制系统等组成。该设备操控方便;结构紧凑,占地面积小。

本系统适用于纳米量级复合膜、多层膜等制备;适用于三靶单独溅射、依次溅射、共同溅射;可溅射磁性材料;适用于制备金属膜、合金膜、半导体膜、陶瓷膜等。

基于该设备,离子源清洗装置在Load-lock,样品先经过清洗,在由送样系统传递到真空溅射腔室,进行下一步的溅射镀膜。

二.设备主要技术参数:

1.真空溅射腔室

Ф500×H500mm(以最终设计为准),304优质不锈钢制造,双层水冷结构;

2.Load-lock

配有Load-Lock系统,样片室中的气缸驱动式机械手,完成自动/手动送样/取样过程,可负载2组样品。

3.真空系统

溅射室:涡轮分子泵+旋片式机械泵+高真空阀门组合的高真空系统,数显复合真空计;

Load-lock室:涡轮分子泵+旋片式机械泵+高真空阀门组合的高真空系统,数显复合真空计;

4.真空极限

溅射室:8.0×10-5Pa(空载,经烘烤除气后);

Load-lock室:8.0×10-5Pa(空载,经烘烤除气后);

5.漏率

0.8Pa/h

6.抽速

溅射室:(空载)从大气抽至4.0×10-4Pa≤30min;

Load-lock室:从大气抽至1.0×10-3Pa≤20min;

7.基片台尺寸

Φ120mm范围内可装卡各种规格基片;

8.基片台旋转、加热

基片旋转:0~30/分钟;

加热:室温~500±1℃,可控可调,日本岛电PID智能温控闭环控温;

9.溅射靶

配置3套3英寸永磁共焦磁控溅射靶(溅射靶角度、高度可调),

磁控靶RF、MF、DC兼容,可以溅射铁磁性材料,

磁控靶配有气动挡板结构;

 

10.工作方式

各靶可独立/顺次/共同工作,采用磁控靶从上向下溅射镀膜;

11.清洗离子源

Load-lock室:配备有一套离子源清洗功能,可以对样品进行预清洗;电源:考夫曼离子源;

12.脉冲偏压

-1000V,1套

13.膜厚不均匀性

≤±5%(基片台Φ100mm范围内);

14.溅射室腔体加热

可实现溅射室内环境加热,加热温度室温~300℃;

15.控制方式

PLC+工控机+液晶屏全自动控制方式;完善的逻辑程序互锁保护系统;

16.报警及保护

对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统。

17.占地面积

(主机)L3000×W1000 (㎜)

 





Products

研博产品中心