一、整机简述

特点/用途

ZHD400高真空电阻蒸发镀膜设备，配4组蒸发源；适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等，也可用作教学及生产线前期工艺试验等。

该设备主机与控制一体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小。设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等，深受广大用户好评。

其主要用途有：

1. 适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜，单层/多层/复合膜，例：铜、镁、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等；

2. 适用于太阳能电池、LED的研究和实验；

3. 适用于有机材料等蒸发；

4. 适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜；例：氧化钼、氟化鋰等；

5. 适用于扫描电镜制样等。

二、设备主要技术参数

1.真空腔室

304真空专用不锈钢，L400×W440×H450mm；方形前开门结构；

2.真空系统

磁悬浮分子泵+直联旋片泵+高真空挡板阀，“两低一高”数显复合真空计；

3.真空指标

极限真空优于6.6×10-5Pa（设备空载抽真空24小时）；

设备升压率≤0.8Pa/h；

设备保压：停泵12小时候后，真空≤10Pa；

4.抽速

空载从大气抽至8.0×10-4Pa≤45min；

5.基片台

抽屉式结构，承载小于120×120mm基片； 

电机驱动基片台旋转，旋转速度0～20转/分钟可调；

手动升降，升降基片台可调节范围70mm ；

可根据要求定制1种掩膜板（客户提供掩膜图案）；

6.基片台加热

加热温度：300℃，PID智能温控闭环控制；

7.蒸发源

①金属源：水冷铜电极 2组；

逆变式蒸发电源，功率3000W； 1台；

②有机源：有机蒸发源（

温度600°），2组；

有机控温蒸发电源：2套（独立PID智能温控蒸发）；

③每组蒸发源配气动挡板及源间防污隔板；

 8.膜厚控制系统

 配进口晶振膜厚仪在线监测、控制膜厚；

 9.控制方式

 采用PLC+触摸屏半自动控制；

 10.报警及保护

 对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。

 11.占地面积

 主机L1710mm×W850mm×H1850mm