一、整机简述
特点/用途
ZHD400高真空电阻蒸发镀膜设备,配4组蒸发源;适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等。
该设备主机与控制一体化设计,PLC触摸屏控制,操控方便,结构紧凑,占地面积小。设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等,深受广大用户好评。
其主要用途有:
1. 适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜,单层/多层/复合膜,例:铜、镁、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等;
2. 适用于太阳能电池、LED的研究和实验;
3. 适用于有机材料等蒸发;
4. 适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜;例:氧化钼、氟化鋰等;
5. 适用于扫描电镜制样等。
二、设备主要技术参数
1.真空腔室
304真空专用不锈钢,L400×W440×H450mm;方形前开门结构;
2.真空系统
磁悬浮分子泵+直联旋片泵+高真空挡板阀,“两低一高”数显复合真空计;
3.真空指标
极限真空优于6.6×10-5Pa(设备空载抽真空24小时);
设备升压率≤0.8Pa/h;
设备保压:停泵12小时候后,真空≤10Pa;
4.抽速
空载从大气抽至8.0×10-4Pa≤45min;
5.基片台
抽屉式结构,承载小于120×120mm基片;
电机驱动基片台旋转,旋转速度0~20转/分钟可调;
手动升降,升降基片台可调节范围70mm ;
可根据要求定制1种掩膜板(客户提供掩膜图案);
6.基片台加热
加热温度:300℃,PID智能温控闭环控制;
7.蒸发源
①金属源:水冷铜电极 2组;
逆变式蒸发电源,功率3000W; 1台;
②有机源:有机蒸发源(
温度600°),2组;
有机控温蒸发电源:2套(独立PID智能温控蒸发);
③每组蒸发源配气动挡板及源间防污隔板;
8.膜厚控制系统
配进口晶振膜厚仪在线监测、控制膜厚;
9.控制方式
采用PLC+触摸屏半自动控制;
10.报警及保护
对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统。
11.占地面积
主机L1710mm×W850mm×H1850mm