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高真空电阻蒸发镀膜机 ZHD300

高真空电阻蒸发镀膜机 ZHD300

真空腔室:Φ300×H360mm,304优质不锈钢真空腔室;
真空极限:≤8.0×10-5Pa;
设备保压:停泵12小时候后,设备真空度≤10Pa;可镀基片尺寸/面积:Φ100mm范围内可装卡各种规格基片;

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真空腔室:Φ300×H360mm,304优质不锈钢真空腔室;
真空极限:≤8.0×10-5Pa;
设备保压:停泵12小时候后,设备真空度≤10Pa;可镀基片尺寸/面积:Φ100mm范围内可装卡各种规格基片;


一、整机简述

特点/用途

ZHD300高真空电阻蒸发镀膜机配2组蒸发源,兼容金属材料蒸发与有机材料蒸发;该设备主机与控制一体化设计,PLC触摸屏控制,操控方便,结构紧凑,占地面积小;该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等,深受广大用户好评。

其主要用途有:

1. 适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜,单层/多层/复合膜,例:铜、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等;

2. 适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜;例:氧化钼、氟化鋰等;

3. 适用于有机材料蒸发;

4. 适用于扫描电镜制样;

5. 适用于太阳能电池、LED的研究和实验。



二、设备主要技术参数

1.真空腔室

Φ300×H360mm,304优质不锈钢真空腔室;

2.真空系统

复合分子泵+直联旋片泵+高真阀门高真空系统,数显复合真空计;

3.真空极限

≤8.0×10-5Pa;(设备空载抽真空24小时);

4.漏率

设备升压率:≤0.8Pa/h;

设备保压:停泵12小时候后,设备真空度≤10Pa;

5.抽速

从大气抽至5.0×10-3Pa≤13min;(设备空载)

6.基片台尺寸

可镀基片尺寸/面积:Φ100mm范围内可装卡各种规格基片;

7.基片台旋转

旋转速度:0-20转/分钟;

8.蒸发源及电源

2对水冷式蒸发电极;1台2000W金属蒸发电源;

9.膜厚不均匀性

≤±5%(基片台Φ80mm范围内);

10.控制方式

PLC+触摸屏控制方式;

11.报警及保护

对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护系统。

12.占地面积

主机L1100mm×W800mm

   


 

   



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