一、整机简述

特点/用途

ZHD300高真空电阻蒸发镀膜机配2组蒸发源，兼容金属材料蒸发与有机材料蒸发；该设备主机与控制一体化设计，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小；该系列设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等，深受广大用户好评。

其主要用途有：

1. 适用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜，单层/多层/复合膜，例：铜、铝、金、银、钡、铋、锌、锑等；

2. 适用于镀制非金属/化合物等材料薄膜；例：氧化钼、氟化鋰等；

3. 适用于有机材料蒸发；

4. 适用于扫描电镜制样；

5. 适用于太阳能电池、LED的研究和实验。

二、设备主要技术参数

1.真空腔室

Φ300×H360mm，304优质不锈钢真空腔室；

2.真空系统

复合分子泵+直联旋片泵+高真阀门高真空系统，数显复合真空计；

3.真空极限

≤8.0×10-5Pa；（设备空载抽真空24小时）；

4.漏率

设备升压率：≤0.8Pa/h；

设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；

5.抽速

从大气抽至5.0×10-3Pa≤13min；（设备空载）

6.基片台尺寸

可镀基片尺寸/面积：Φ100mm范围内可装卡各种规格基片；

7.基片台旋转

旋转速度：0-20转/分钟；

8.蒸发源及电源

2对水冷式蒸发电极；1台2000W金属蒸发电源；

9.膜厚不均匀性

≤±5%（基片台Φ80mm范围内）；

10.控制方式

PLC+触摸屏控制方式；

11.报警及保护

对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。

12.占地面积

主机L1100mm×W800mm