一、整机简述

特点/用途

ZHDS400型高真空有机/金属蒸发镀膜机是纳米薄膜沉积系统与手套箱系统的有机结合，该设备可在惰性气体保护的环境下完成装片、装料及换料取片等工作，并且由于采用惰性气体的工作环境及无油真空系统使镀膜机可更快的到达高真空，获得洁净的真空环境；本设备共配置4组蒸发源，组合配置灵活，具备单层蒸镀、多源共蒸、分层镀膜等功能。

蒸发镀膜与手套箱环境无缝对接融合，实现蒸镀、封装、测试等工艺无缝对接，稳定性更高。广泛应用于有机、无机钙钛矿太阳能电池、锂电池及OLED薄膜等研究系统；纳米薄膜光电子器件制备及生产线前期工艺试验等。

二、设备主要技术参数

1.有机/金属镀膜室

镀膜室尺寸：L400mm×W440mm×H450mm；SUS304不锈钢制作，方箱式，配有前、后门，前门水平滑开式，材质为锻铝，便于手套箱内操作；后门为侧开门，便于设备清理维护；特点：镀膜室配置独立机架，可在脱离手套箱条件下单独调试和使用，与手套箱之间通过镀膜室前门框密封连接，对接方便、密封可靠；

2.真空系统

复合分子泵+直联旋片泵+高真空插板阀高真空系统，“两低一高”数显复合真空计；

3.真空指标

极限真空：优于5.0×10-5Pa；(设备和手套箱分体，设备空载抽真空24小时)

抽速：从大气抽至8.0×10-4Pa≤40min；

设备升压率：≤0.8Pa/h；

设备保压：停泵12小时候后，设备真空度≤10Pa；

4.基片台

抽屉式结构，承载小于120×120mm基片； 配有气动基片台挡板；

基片台电机驱动，旋转速度0～20转/分钟可调；

手动升降，升降基片台可调节范围70mm；

可根据用户要求定制掩膜板1套；

5.基片台加热

加热温度：300℃，PID智能温控闭环控制；

6.蒸发源

①金属源：水冷铜电极2组；

逆变式蒸发电源：功率3000W；1台（1台电源可切换2组蒸发源）；

②有机源：控温有机蒸发源（温度600°），2组；

有机蒸发源特点：角度向心可调（提高材料利用率，均匀性好），蒸发速率可控；

有机控温蒸发电源：2套（独立PID智能温控蒸发）；

③蒸发源配气动挡板及源间防污隔板；

 7.膜厚控制系统

 选配

 8.控制方式

 采用PLC+触摸屏半自动控制；

 9.报警及保护

 对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统。

 10.占地面积

L4800mm×W1600mm×H1900mm（含1.8米手套箱）