一、产品概述
1、主要用途：
适合在大面积玻璃、亚克力板、PC表面沉积纳米级金属膜（金、银、铜、铝、铬等）、半导体膜（ITO、AZO等）、介质膜（氧化钛、氧化铬、氧化钨）、电致变色薄膜层等，广泛应用在光伏、光电、触摸屏、半导体、平板电极及建筑装饰玻璃等行业。
2、产品优点及特点：
采用磁控溅射方式，沉积速率快，膜层均匀致密，光亮度好，在大面积上的镀膜不均匀性≤±5%，特别适合有功能性要求的膜层制备及控制；例：镀膜导电膜层，电阻值均匀可控，可以控制为稳定电阻，也可控制为渐变电阻。加上自主开发全自动控制系统可实现一键化操作；保证产品镀膜性能连续稳定；设备采用模块化设计，可根据生产量增加镀膜模块及其他拓展模块，设备易拆卸、维护保养。
二、技术参数
型号 | JCPF1600-4500 |
真空系统 | 国产或进口分子泵/扩散泵+罗茨泵+机械泵高真空系统 |
极限真空 | 优于2.0×10-4Pa |
抽速 | 从大气到3.3×10-3Pa≤30min， 升压率关机12小时后真空度≤10Pa |
工件架尺寸 | 可根据尺寸定制 |
工件烘烤温度 | 室温～300℃，可调可控（PID控温） |
配置 | 弧源、蒸发电极、矩形磁控靶、离子源、偏压可选 |
系统 | 全自动控制系统，个性化的Tech-Coating控制菜单，安全保护系统 |
