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CVD化学气相沉积设备的组成
来源: | 作者:佚名 | 发布时间: 2022-01-11 | 173 次浏览 | 分享到:


由于CVD化学气相沉积设备的生长来源易燃、易爆、剧毒,需要多组分、大面积、薄层、超薄层的异质材料。因此,在CVD化学气相沉积设备系统的设计理念中,通常需要考虑系统的严密性、流量和温度的准确控制、零件的快速更换、系统的紧凑性等。不同的制造商和研究人员生产或组装不同的涂层设备。一般由气源供应系统、气体输送和流量控制系统、反应室和温度控制系统、废气处理和安全保护报警系统、自动运行和电气控制系统组成。

1.供应系统。

包括供应第三种有机金属化合物、第五种氢化物和掺杂源。金属有机化合物安装在特殊的不锈钢泡沫中,从引进的高纯度H2输送到反应室。电子恒温器的温度控制精度可小于0.2,以确保有机金属化合物蒸汽压力的恒定。氢化物通常用高纯度H2稀释到5%-10%,然后放入瓶中,用高纯度H2稀释到所需浓度,然后输送到反应室。有两种掺杂源,一种是有机金属化合物,另一种是氢化物,与有机金属化合物和氢化物相同。

2.气体输送系统。

燃气管道为不锈钢管道。为了防止存储效果,在管道中进行电解抛光。油漆设备组装的关键之一是将氢弧焊或VCR连接到世卫洛克,进行正压泄漏检测和Snop液体或he泄漏检测,以确保反应系统无泄漏。电磁阀和气动阀实现高质量的流量计,响应时间快,精度高。真空系统和反应室之间有一个过滤器,以防止油渍或其他颗粒被吸回反应室。为快速改变反应室中的反应气体,在不引起反应室压力变化的情况下设置运行和排气管。

3.反应室和加热系统。

反应室由石英管和石墨底座组成。制造商和研究人员设计了具有均匀生长成分、超薄层和异质结构的反应室。石墨基体由高纯度石墨制成,涂有碳化硅层。高频感应加热主要用于加热,少数用于辐射加热。温度由热电偶和温度控制器控制,一般温度控制精度可小于0.2。

4.废气处理系统。

反应气体通过反应室后,大部分被热分解,但有些没有完全分解,因此废气不能直接排放到大气中,必须先处理。主要处理方法是在高温热解炉中再次热分解,然后用硅油或高锰酸钾溶液处理。废气也可直接引入含有H2SO4H2O和NaoH溶液的过滤瓶;有些人还将废气引入固体吸附剂进行吸附,并用水冲洗。4.5.安全保护和报警系统。

为安全起见,一般化学气相沉积设备系统还配备了高纯度二次旁路系统。当电源因断电或其他原因无法正常工作时,引入纯N2保护生长晶片或系统的清洁度。在停止生长期间,还有一个正常的高纯度N2保护系统。

5.手动和自动控制系统。

油漆设备一般具有手动操作和微机自动控制操作两种功能。在控制系统面板上,有一个阀门开关,设置和数字显示每个管道中的气流和温度。如有问题,自动报警,使操作人员能够及时了解设备的运行情况。此外,油漆设备一般位于强排气车间。



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