硬质涂层镀膜设备用于：科研、半导体、工具、刀具、模具、零件、医疗器械、光学、新能源等领域。可电镀Altin、TiAlN、AltiXN、Altixn、TiSin、CrN、TiNTa-cr+a-c、Cr+a-c:HW+a-c:H等碳元素Cr+a-c:HCrN+a-c:H等PECVD涂层。

随着国外硬漆真空涂料设备的发展、现状和未来，随着加工工艺的不断提高，硬质涂层镀膜设备市场的市场规模也在扩大。根据市场份额，工具用硬涂料主要为：刀具涂料70%，模具涂料25%，无零件涂料5%。制备方法主要包括阴极弧离子镀和磁控溅射。真空镀膜设备采用磁控溅射技术制备。弧焊与磁控溅射技术的区别在于，弧焊效率达到90%以上，沉积速度快，但也存在液滴问题；磁控溅射平面平整，但离化率低，沉积率低。

现在，这两种技术都在不断进步。磁控溅射技术也在不断发展。封闭磁场非平衡磁控溅射技术可以显著提高其离化率，这是提高磁控溅射膜质量的关键。随着中频孪生磁控和非平衡磁控溅射技术的发展，磁控溅射真空涂层设备获得了类似弧形的优质涂层。

未来，随着工业需求的增加，溅射涂层设备具有许多优点，对硬质涂层镀膜设备提出了更高的要求。超硬涂层和低摩擦系数涂层是涂层发展的两个方向。

1.硬度超过40GPa的超硬涂层通常是指硬度超过40的硬膜。涂层成分:1)50-100微米的金刚石涂层的硬度与晶体取向有关。

2.立方氮化硼(e-BN)涂层(硬度50-80GPa)

3.金刚石涂层(DLC为10GPa-60GPa，由于过程中硬度可能发生变化)

4.碳氮涂层(CNx，硬度达到15GPa-50GPa)

5.纳米复合涂层和纳米多层膜(Tin/NbN纳米多层膜层硬度分别为51GPa、TiYN/VN纳米涂层，硬度达到78GPa)