离子溅射镀膜机技术领域：

短光带多层膜制备设备，具体为离子溅射镀膜机涂层设备。

目前，离子溅射镀膜机对X射线、软X射线等短光波段的多层膜研究已有近20年的历史。X射线激光同步辐射应用、光刻、X射线显微技术等一批高科技国家项目对薄膜元件提出了越来越高的要求。然而，目前，X射线衍射在中国已经对软X射线等短光波段进行了多层薄膜研究，中国还没有独立开发的产品。膜的制备通常采用溅射和蒸发法，如磁控溅射涂层机，能量大，镀膜速度快，可实现低温高速；与电子束蒸发装置一样，它可以大面积镀，适用于高熔点金属材料涂层，但不易超薄。

离子溅射镀膜机其目的是提供工艺简单、使用方便、涂层质量高的离子束溅射器，适用于X射线软X射线光学超薄多层薄膜。

为实现上述目的，技术方案为：包括涂层室、离子枪、靶向、底夹架，本实用新型包括真空抽气机和安装架，其中一个涂层室为气缸真空室，位于安装架上，连接电源；在涂层室顶部法兰上，通过45°角安装4个站水冷转柄，离子枪和旋转器的格栅轴中心点放置在相同的垂直轴上，旋转。离子束对旋转目标表面的入射角为45°，旋转目标表面的反射角为45°，即离子枪轴垂直于90°，底夹架安装在与旋转目标中心点相同的水平上，涂层室中部相同高度向右开放的法兰接管上，用衬底支架夹住的样品表面垂直于反射束的流动方向，离子枪与旋转目标和旋转目标与衬底夹架之间设置隔板；涂层室底部设置隔板；

衬底夹架旋转，夹具上设有加热冷却装置，底部设有薄膜厚度试验探头。真空泵由液氮冷陷阱、涡轮分子泵、插头阀、真空泵等组成。在泵出口，通过插头阀连接到液氮冷陷阱的涂层室，涡轮分子泵安装在液氮冷陷阱下，旋转目标有四个不同的目标。