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电弧离子镀膜机薄膜均匀性的概念
来源: | 作者:佚名 | 发布时间: 2022-09-26 | 237 次浏览 | 分享到:

电弧离子镀膜机薄膜均匀性的概念?电弧离子镀膜机主要是指需要在高真空度下进行的一种镀膜,包括真空电阻加热蒸发、电子枪加热蒸发、磁控溅射等多种镀膜,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积、离子束溅射等。主要思想是蒸发和溅射。

        电弧离子镀膜机如下:

1.厚度的均匀性也可以理解为粗糙度。就光学薄膜的尺度而言(即以1/10波长为单位,约为100A),真空涂层的均匀性相当好。可以很容易地将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说,对于薄膜的光学特性,真空涂层没有障碍。但是,如果是指原子层尺度的均匀性,则意味着实现10A甚至1A表面平整,具体控制因素将根据不同的涂层进行详细说明。

2.化学成分的均匀性:也就是说,在薄膜中,化合物的原子成分很容易因为尺度太小而产生不均匀的特性,SiTiO3薄膜,如果涂层过程不科学,那么实际表面的成分就不是SiTiO3、可能是其他比例,镀膜不是所需的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量。

3.晶格有序度的均匀性:这就决定了薄膜是单晶、多晶、非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。

以上就是今日小编为大家介绍的电弧离子镀膜机,感谢大家耐心地阅读!


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