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蒸发镀膜:制备薄膜的核心技术
来源: | 作者:admin | 发布时间: 2024-04-08 | 42 次浏览 | 分享到:


真空蒸发镀膜是指在真空条件下,通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。由于真空蒸发法或真空蒸镀法主要物理过程是通过加热蒸发材料而产生,所以又称或者,所配套的设备称之为

PVD其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。

蒸发镀膜的原理


真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成:将膜材置于真空镀膜室内,通过蒸发源加热使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸时,蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后,在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子(主要是残余气体分子)的碰撞阻碍,可直接到达被镀的基片表面,由于基片温度较低,便凝结其上而成膜,为了提高蒸发分子与基片的附着力,对基片进行适当的加热是必要的。为使蒸发镀膜顺利进行,应具备蒸发过程中的真空条件和制膜过程中的蒸发条件。

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常见蒸镀材料及蒸发装置选择


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