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电子束镀膜设备的介绍
来源: | 作者:佚名 | 发布时间: 2022-01-11 | 153 次浏览 | 分享到:
真空度≤8E-5Pa,真空室真空度≤8E-5Pa

电子束镀膜设备的介绍:

真空度≤8E-5Pa,真空室真空度≤8E-5Pa,气泵转速≤40min,泄漏率≤2E-10Atmcc/sec。加速功率为10kW,电流为1A,偏转角度为270度。测量范围为+20mm-20mm,电子束镀膜设备范围为+20mm-20mm,电子束镀膜设备频率50Hz,Y方向扫描500Hz。高电压:发射电流0~1A,稳定性±2%;较大输出功率10kW,灯丝电流50A。本机采用的是一台1800℃的蒸汽式直流电源。磁控室板和蒸发室的较大加热温度分别为600℃和400℃。较高功率10kW磁控中频电源。极化源,功率30kw。Ar.N2.O2,较高速度为100cm。

电子束镀膜设备装置分为磁控溅射腔和蒸发室。双阴极输出(10KW)位于磁控溅射腔内,连接两个双磁控目标,英国真科封闭非平衡磁控目标。使用偏压电源30kW,直流、脉冲两种偏压形式,较高电压1000V,较大电流75A,频率1-30kHz。在5-95%的范围内。磁控制室能溅射金属。氧化形溅射、氮化物等。通过电子束蒸发和热电阻蒸发,许多金属、氧化物材料可以蒸发。另外,本发明配有晶振薄膜测厚仪,可在涂膜过程中测量薄膜的厚度。


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