电子束镀膜设备的介绍：

真空度≤8E-5Pa，真空室真空度≤8E-5Pa，气泵转速≤40min，泄漏率≤2E-10Atmcc/sec。加速功率为10kW，电流为1A，偏转角度为270度。测量范围为+20mm-20mm，电子束镀膜设备范围为+20mm-20mm，电子束镀膜设备频率50Hz,Y方向扫描500Hz。高电压：发射电流0~1A，稳定性±2%；较大输出功率10kW，灯丝电流50A。本机采用的是一台1800℃的蒸汽式直流电源。磁控室板和蒸发室的较大加热温度分别为600℃和400℃。较高功率10kW磁控中频电源。极化源，功率30kw。Ar.N2.O2，较高速度为100cm。

电子束镀膜设备装置分为磁控溅射腔和蒸发室。双阴极输出(10KW)位于磁控溅射腔内，连接两个双磁控目标，英国真科封闭非平衡磁控目标。使用偏压电源30kW，直流、脉冲两种偏压形式，较高电压1000V，较大电流75A，频率1-30kHz。在5-95%的范围内。磁控制室能溅射金属。氧化形溅射、氮化物等。通过电子束蒸发和热电阻蒸发，许多金属、氧化物材料可以蒸发。另外，本发明配有晶振薄膜测厚仪，可在涂膜过程中测量薄膜的厚度。