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电弧离子镀膜设备的工艺原理是什么?
来源: | 作者:佚名 | 发布时间: 2022-02-18 | 226 次浏览 | 分享到:

电弧离子镀膜设备的工艺原理是什么?

在真空阴极真空电弧放电理论的基础上,研究了电弧离子镀膜设备的技术原理。通过对冷阴极真空电弧放电理论的分析,可以实现正离子电流机制与现场电子发射机制的相互影响和限制。因此,放电活动中的阴极材料需要大量蒸发。许多活动产生的蒸汽分子会产生一些正离子,可以在阴极附近产生超电场,从而促进现场电子发射机制的影响,导致电子发射到真空环境中。

计算电子发射电流密度的方法如下:

电流密度=BExp(-C/E)

注:计算公式E指阴极电场强度;B指与阴极材料相关的系数;单位为A/cm。

由于不可能准确地建立和解决能量与质量之间的数量与质量平衡,因此设备放电活动电流密度的理论计算仍存在一些困难。

因为它涉及阴极弧光点的离子。阴极弧光点位于一个小空间,在高电流密度下变化迅速。该机制尚不完全清楚,但我们可以理解以下解释:

金属离子被吸入阴极表面,产生空间电荷层。这里触发的强电场会使阴极表面功能较小的微裂纹或晶界发射电子。

高分高电子密度点产生高密度电流,高密度电流产生焦耳热,提高温度,发射热电子。

局部电流产生的焦耳热会导致大量离子和电子发射阴极材料,释放熔融阴极材料颗粒,留下放电痕迹。

大量离子中的一些离子会被吸回阴极材料表面,再次产生空间电荷层和强电场,电子发射将再次开始。

以上就是小编今日为大家介绍的电弧离子镀膜设备,感谢大家耐心的阅读!


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