磁控溅射设备在高真空下，电子枪灯丝加热发射热电子，加速阳极加速，对蒸发材料产生巨大的动能轰击，将动能转化为热蒸发材料，实现电子束蒸发涂层。电子束蒸发源由发射电子的热阴极、电子加速极和作为阳极的涂层材料组成。电子束蒸发源的能量可以高度集中，使涂层材料在高温下蒸发。通过调整电子束的功率，可以很容易地控制涂层材料的蒸发率，特别是高熔点、高纯金属和化合物材料。

磁控溅射设备的特点。

电子束蒸发涂层机是工业上常用的薄膜制造设备。由于蒸发涂层机在薄膜生产中起着重要作用，薄膜的生产主要是通过加热涂层机中的电子束。

1.电子束加热蒸发涂层的优点。

①与传统的电阻加热方法相比，涂层机中的电子束加热方法。电子束加热产生更高的通量密度，有利于高熔点材料的蒸发，并在一定程度上提高蒸发率。

②蒸发涂层机将需要蒸发的原料放入水冷铜坩埚中，保证材料免受污染，制造高纯度薄膜。

③电子束蒸发粒子动能大，有利于膜的精度和结合力。

2.电子束加热蒸发涂层的缺点。

①电子束蒸发涂层机整体结构复杂，价格高于其他涂层设备。

②当涂层机工作时，如果蒸发源附近的蒸汽密度较高，电子束流与蒸汽颗粒之间会有一定的相互作用，影响电子通量，导致电子通量丢失或偏离轨道。您还可能刺激和电离蒸汽和残留气体，从而影响整个薄膜的质量。

以上就是小编今日为大家介绍的磁控溅射设备的特点，感谢大家耐心的阅读！