电弧离子镀膜机概述
(1)适用范围
本标准适用于10-40-4压力Pa—10-3Pa电弧离子镀膜机(以下简称设备)包括以下类型:多弧离子涂层、电弧放电真空离子涂层、空心阴极离子涂层(HCD),射频离子镀(RFIP),直流放电二极型(DCIP),多阴极型,活性反应蒸发(ARE),增强型ARE,低压等离子涂层(LFPD),电场蒸发离子镀、感应加热离子镀、簇离子镀等。
(2)结构要求
①真空管、静态密封件(法兰、密封圈等)的结构类型。设备应符合要求。GB/T6070的规定。
②真空测量管应安装在低真空管和高真空管上,并测量真空涂层室各部分的真空度。当发现电场干扰测量时,应在测量口安装电场屏蔽装置。
③电弧离子镀膜机采用主泵扩散泵时,应在泵进气口侧安装油蒸气捕集陷阱。
④设备镀膜室应配备观察窗,观察窗应配备挡板装置。观察窗应能观察沉积源等关键部位的工作情况。
⑤离子电镀沉积源的设计应尽可能提高电镀过程中的离化率,提高电镀材料的利用率,合理匹配沉积源的功率,合理安排真空室内沉积源的位置。
⑥加热装置布置合理,一般加热器结构布置应使涂层工件温升均匀。
⑦工件架应与真空室绝缘,工件架的设计应使工件膜层均匀。
⑧离子涂层设备一般应具有工件负偏压和离子轰击电源,离子轰击电源应具有抑制异常放电装置,保持工作稳定。
⑨真空室各部分之间的绝缘电阻值根据不同电位连接GB/T有关规定1164-99。
(3)试验方法
极限压力、抽气时间和升压试验方法“电弧离子镀膜机的一般条件”测试相应参数的方法。