电子束镀膜设备根据电子束蒸发的物理气相堆积(PVD)该技术利用电子束直接在真空下加热蒸发材料（通常是颗粒），并将蒸发材料输送到基板上形成薄膜。电子束蒸发可以涂上高纯度、高精度的薄膜。

电子束镀膜设备作为一种工艺实验仪器，通常用于材料科学领域。它是一种用于镀各种单层膜和多层膜的普通涂层机。它可以涂上各种硬膜和金属膜。主要用于制备纳米设备、有机光电设备的金属电极和生长纳米材料的催化剂膜。

应用范围：

电子束镀膜设备广泛应用于各种应用料使用功率而广泛应用于各种应用中。例如，高性能航空航天和汽车工业对材料的耐高温性和耐磨性有很高的要求；耐用的硬涂层；化学屏障和涂层，以保护腐蚀环境的外观。电子束蒸发也用于光学薄膜，包括激光、太阳能电池板、玻璃和建筑玻璃，以提供所需的导电性、反射性和透射性。

优缺点

电子束蒸发技术可以蒸发高熔点材料，高于一般电阻加热蒸发技术。电子束蒸发涂层机可广泛应用于高纯薄膜、导电玻璃等光学涂层。它还具有航空航天工业的耐磨和热障涂层、切割和东西工业的硬涂层的潜在工业用途。然而，电子束蒸发涂层机不能用于涂覆混乱形状的内外表面。此外，电子枪中灯丝的退化可能导致蒸发率不均匀。

电子束镀膜设备是根据钨丝蒸发的。大约5到10kV电流通过钨丝（位于堆积区外，防止污染）加热到电子热离子发射点。使用永磁体或电磁体聚焦电子，引导蒸发材料（放置在坩埚中）。当电子束接触到蒸发丸的外观时，其动能转化为热量，释放高能量（每平方英寸超过数百万瓦）。因此，有必要冷却炉床，以防止熔化。