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蒸发镀膜设备的镀膜方法
来源: | 作者:佚名 | 发布时间: 2022-08-31 | 399 次浏览 | 分享到:

蒸发镀膜设备使用真空蒸发涂层法(以下简称真空蒸发涂层)是在真空室加热蒸发容器中形成薄膜的原料,使其原子或分子从表面气化,形成蒸汽流,进入固体(称为基底或基底)表面,凝结形成固体薄膜的方法。由于真空蒸发法或真空蒸发法的主要物理过程是通过加热蒸发材料产生的,也被称为热蒸发法。用这种方法制作薄膜。它已经有几十年的历史了,并被广泛使用。近年来,该方法的改进主要集中在蒸发源上。为了抑制或避免薄膜原料与蒸发加热器的化学反应,使用耐热陶瓷坩埚,如BN坩埚。采用电子束加热源或激光加热源蒸发低蒸气压物质。为了制造成分复杂或多层复合膜,开发了多源共蒸发或顺序蒸发法。为了制备化合物膜或抑制膜成分对原材料的偏差,出现了反应蒸发法。

蒸发镀膜设备真空蒸发涂层原理:

它将薄膜材料放置在真空涂层室中,并通过蒸发源加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基板之间的线尺寸时,蒸发颗粒从蒸发源表面逃逸,很少受到其他颗粒(主要是残余气体分子)的碰撞,可直接到达基板表面,形成薄膜。

蒸发镀膜设备真空涂层的特点:

真空蒸镀法的优点:设备简单,操作方便;薄膜纯度高,质量好,厚度控制准确;成膜速度快,效率高;薄膜生长机制简单。


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