离子溅射镀膜机的基本工艺

离子溅射镀膜机是利用气体放电在真空条件下部分离气体或被蒸发物，在气体离子或被蒸发物离子轰击的同时，将蒸发物或其反应物沉积在基底上。它具有蒸发镀沉积速度快、离子溅射镀膜机冲击清洁表面的特点，特别是膜附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点，因此该技术发展迅速。

溅射涂层是指利用荷能粒子在真空室中轰击靶表面沉积在基板上的技术，实际上是利用离子溅射镀膜机现象制作各种膜。

离子溅射镀膜机基本工艺如下∶

1、在真空室等离子体中产生正氩离子，并加速靶向负电位。

2、离子溅射镀膜机在加速过程中获得能量，并轰击靶材料。

3、离子溅射镀膜机通过物理过程从靶上冲击(溅射)原子，靶具有所需的材料成分。

4、被撞击(溅射)的原子迁移到基体表面。

5、溅射的原子在基体表面凝结形成薄膜，与靶材相比，薄膜具有与其基本相同的材料成分。

6、真空泵抽走了额外的材料。